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Dispositivos integrados fotónicos
La utilización de tecnologías nanofotónicas para la implementación de estructuras fotónicas da lugar a la implementación dispositivos fotónicos integrados con características y funcionalidades novedosas. La capacidad de miniaturizar las estructuras fotónicas permite realizar funcionalidades complejas en un solo chip. Además se espera que en estos circuitos integrados se consiga no sólo una reducción de tamaños, sino también de consumo de potencia. Estas características hacen prever una expansión de los dispositivos fotónicos integrados análoga a la que sucedió con anterioridad en el campo de la microelectrónica; con las grandes mejoras de velocidad y ancho de banda que introduce la tecnología fotónica. Por otro lado, otra de las capacidades derivadas de la elaboración de estructuras con capacidad de controlar la luz a escalas nanométricas, es que permiten actuar sobre los materiales, tejidos o células de forma más directa. Esto es de gran utilidad de cara a la elaboración de sensores capaces de detectar elementos o procesos que tienen lugar en estas pequeñas escalas.
Estas capacidades que caracterizan a las estructuras fotónicas dan lugar a una gran diversidad de aplicaciones en distintos sectores industriales:
- Dispositivos fotónicos pasivos para la
implementación de funcionalidades básicas tales como
divisores de potencia, multiplexores, filtros, etc.
- Dispositivos de procesado fotónico, líneas de retardo, estructuras de onda lenta y de alta dispersión.
- Conformado óptico de haces: Matriz de Butler.
- Sensores de alta sensibilidad y selectividad en distintas áreas como defensa o medicina para la detección de explosivos, gases bélicos, elementos químicos o patógenos.
